Chemical Vapor Deposition

1.199,00 DKK
+ 58,49 DKK Levering
  • product image

Chemical Vapor Deposition

  • Brand: Unbranded
Sоlgt af:

Chemical Vapor Deposition

  • Brand: Unbranded

1.199,00 DKK

På lager
+ 58,49 DKK Levering

14-dages returpolitik

Sоlgt af:

1.199,00 DKK

På lager
+ 58,49 DKK Levering

14-dages returpolitik

Betalingsmetoder:

Beskrivelse

Chemical Vapor Deposition

1. Introduction. - 2. Thin Film Phenomena. - 3. Manufacturability. - 4. Chemical Equilibrium and Kinetics. - 5. Reactor Design for Thermal CVD. - 6. Fundamentals of Plasma Chemistry. - 7. Processing Plasmas and Reactors. - 8. CVD of Conductors. - 9. CVD of Dielectrics. - 10. CVD of Semiconductors. - 11. Emerging CVD Techniques. - AppendixVacuum Techniques for CVD. - A. 1 Fundamentals of Vaccum System Design. - A. 2 Typical Hardware Configurations. Language: English
  • Brand: Unbranded
  • Kategori: Uddannelse
  • Format: Paperback
  • Forlag / Pladeselskab: Springer
  • Udgivelsesdato: 2013/06/22
  • Kunstner: Srinivasan Sivaram
  • Sprog: English
  • Antal sider: 292
  • Fruugo ID: 450901291-950612076
  • ISBN: 9781475747539

Levering og returnering

Sendt inden for 4 dage

  • STANDARD: 58,49 DKK - Levering mellem kl man. 26 januar 2026–tor. 29 januar 2026

Afsendes fra Storbritannien.

Vi gør vores bedste for at sikre, at de produkter, du bestiller, leveres til dig fuldt ud og i henhold til dine specifikationer. Skulle du dog modtage en ufuldstændig ordre eller andre ting end dem, du bestilte, eller der er en anden grund til, at du ikke er tilfreds med ordren, kan du returnere ordren eller produkter inkluderet i ordren og modtage en fuld refusion for varerne. Se fuld returpolitik